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北京，2025年9月16日 —— 在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主可控的關(guān)鍵時(shí)期，“華夏之光”項(xiàng)目處正式亮相。該項(xiàng)目處以“光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化”為使命，匯聚國(guó)內(nèi)頂尖科研和產(chǎn)業(yè)力量，旨在打破國(guó)外技術(shù)壟斷，推動(dòng)中國(guó)芯片制造從“跟跑”邁向“領(lǐng)跑”。項(xiàng)目處通過技術(shù)協(xié)同和產(chǎn)業(yè)聯(lián)動(dòng)，為國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)研發(fā)提供全面支撐，目前項(xiàng)目即將啟動(dòng)并進(jìn)入批量生產(chǎn)階段。

光刻機(jī)被譽(yù)為集成電路制造的“工業(yè)之母”，其技術(shù)水平直接決定芯片性能與產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。長(zhǎng)期以來，全球光刻機(jī)市場(chǎng)由荷蘭ASML等企業(yè)主導(dǎo)，中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)面臨“卡脖子”風(fēng)險(xiǎn)。為應(yīng)對(duì)這一挑戰(zhàn)，“華夏之光”項(xiàng)目處通過產(chǎn)學(xué)研用的多方協(xié)作，推動(dòng)從90nm到3nm以下先進(jìn)制程的研發(fā)與應(yīng)用探索。

發(fā)展歷程

2021年：實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)DUV光刻機(jī)90/65nm工藝穩(wěn)定量產(chǎn)，填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空白；

2022年：EUV光刻關(guān)鍵技術(shù)取得突破，進(jìn)入實(shí)驗(yàn)室驗(yàn)證階段；

2023年：7nm光刻系統(tǒng)試產(chǎn)成功，標(biāo)志中國(guó)進(jìn)入先進(jìn)制程行列；

2024年：DUV浸沒式光刻機(jī)下線，支持28nm以上工藝大規(guī)模應(yīng)用；

2025年：3nm DUV光刻機(jī)原型機(jī)已完成關(guān)鍵技術(shù)驗(yàn)證，即將批量生產(chǎn)，目標(biāo)產(chǎn)量占比達(dá)50%，良率提升至30%，分辨率控制在3mm以內(nèi)。

同時(shí)，平臺(tái)還關(guān)注前沿技術(shù)，推動(dòng)EUV及High-NA EUV等2nm以下制程研究，為下一代半導(dǎo)體工藝儲(chǔ)備核心能力。

技術(shù)突破案例

2024年，0.6納米精度的“羲之”電子束光刻機(jī)在杭州問世，由浙江大學(xué)余杭量子研究院研發(fā)。這是中國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)化電子束光刻機(jī)，精度達(dá)0.6納米，線寬8納米，技術(shù)指標(biāo)比肩國(guó)際主流設(shè)備。該設(shè)備現(xiàn)已進(jìn)入應(yīng)用測(cè)試階段，被研發(fā)團(tuán)隊(duì)稱為“納米神筆”，能夠在單根頭發(fā)絲上雕刻出整座城市的地圖，為量子芯片研發(fā)提供自主可控的重要工具。

組織架構(gòu)與成員

“華夏之光”項(xiàng)目處采用開放協(xié)作模式，聯(lián)合科研院所、高校、裝備制造企業(yè)和芯片企業(yè)共同推進(jìn)技術(shù)研發(fā)和應(yīng)用示范。核心參與單位包括：中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所、上海交通大學(xué)、上海微電子裝備（SMEE）、中芯國(guó)際（SMIC）、華虹集團(tuán)、長(zhǎng)江存儲(chǔ)（YMTC）、AMEC、Naura等。

項(xiàng)目處下設(shè)研發(fā)交流中心、產(chǎn)業(yè)協(xié)同中心和應(yīng)用示范基地，推動(dòng)全鏈條的技術(shù)創(chuàng)新與成果轉(zhuǎn)化。研發(fā)中心聚焦光刻機(jī)核心技術(shù)攻關(guān)；協(xié)同中心負(fù)責(zé)上下游產(chǎn)業(yè)對(duì)接；示范基地承擔(dān)設(shè)備應(yīng)用與產(chǎn)業(yè)化測(cè)試。

應(yīng)用與影響

項(xiàng)目處的研究成果已在手機(jī)芯片、汽車電子、存儲(chǔ)器等領(lǐng)域得到應(yīng)用，提升國(guó)產(chǎn)芯片自給率。通過多方協(xié)作與開放交流，項(xiàng)目處在技術(shù)推廣和產(chǎn)業(yè)互動(dòng)方面發(fā)揮積極作用。隨著關(guān)鍵設(shè)備即將進(jìn)入批量生產(chǎn)階段，中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)的自主可控能力將得到進(jìn)一步鞏固。

未來，“華夏之光”項(xiàng)目處將繼續(xù)保持開放交流定位，推動(dòng)學(xué)術(shù)界與產(chǎn)業(yè)界的協(xié)作創(chuàng)新，為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)形成可持續(xù)的自主技術(shù)生態(tài)提供支持。